Landau Flint o'zining ilk EUV nurlanish manbasini ko'rsatdi

Xitoyning Landau Flint kompaniyasi mikrochiplar ishlab chiqarish uchun mo'ljallangan ilk EUV nurlanish manbasi prototipini omma e'tiboriga taqdim etdi.

Xitoyning Landau Flint kompaniyasi mikrochiplar ishlab chiqarishda hal qiluvchi ahamiyatga ega bo'lgan ekstremal ultrabinafsha nurlanish (EUV) manbasining ilk prototipini ilk bor keng jamoatchilikka taqdim etdi. Ushbu muhim texnologik ishlanma o'tkazilgan yirik xalqaro sanoat ko'rgazmasida namoyish qilingan bo'lib, mutaxassislar tizimning lokalizatsiya darajasi 90 foizga yetganini ma'lum qilishdi.

EUV texnologiyasining ahamiyati va joriy holati

EUV nurlanish manbalari 7 nanometrli va undan kichik texnologik me'yorlar asosida o'ta ilg'or chiplar ishlab chiqaruvchi zamonaviy litografik qurilmalarning asosiy uchta asosiy tarkibiy qismidan biri hisoblanadi. Mazkur texnologiyalar uzoq yillar davomida xorijiy ishlab chiqaruvchilarning qat'iy nazoratida saqlanib kelgan va turli eksport taqiqlari hamda cheklovlar tufayli mahalliy kompaniyalar uchun mavjud emas edi. Namoyish etilgan yangi prototip jahonning yetakchi kompaniyalari foydalanadigan yondashuvlarga yaqinligi bilan ajralib turadi va allaqachon yarimo'tkazuvchilarni ekspon qilish sinovlarida qo'llanilmoqda.

Shunga qaramay, mazkur tizimni ommaviy tijoriy ishlab chiqarish darajasiga olib chiqish uchun yana uchdan besh yilgacha vaqt talab etiladi. Ko'rgazma vakillarining so'zlariga ko'ra, injenerlar oldida nurlanish quvvatini sezilarli darajada oshirish hamda uskuraning uzoq muddat davomida uzluksiz va barqaror ishlashini ta'minlash kabi asosiy vazifalar turibdi. Hozirgi kunda tijoriy EUV tizimlari yuzlab vatt quvvatni talab qilishini inobatga olsak, joriy ko'rsatkichlar sanoat miqyosida ommaviy foydalanish uchun hali yetarli emas.

Kompaniyaning mavjud qurilmalari va ularning parametrlari

• FlintNano LPP-OXXO qurilmasi 1000 vatt quvvatga ega lazer va 1 dan 20 kHz gacha bo'lgan chastotadan foydalanadi
• Tizimning EUV nurlanish quvvati 15 vattdan oshadi, uzluksiz ishlash davomiyligi esa 100 soatdan ko'proqni tashkil qiladi
• Plazma barqarorligi 3% RMS darajasida qayd etilgan bo'lib, energetik barqarorlik ko'rsatkichi 5% ga teng
• Flint Micro-LPP seriyasi o'zining ishlash prinsipini muvaffaqiyatli namoyish etgan, Flint Nano-LPP esa tijoriy qo'llash bosqichiga tayyorgarlik ko'rmoqda

Mazkur kompaniya 2024-yilda Tsinghua Universitetining gaz-razryadli plazma laboratoriyasi tadqiqotlari asosida LPP-EUV texnologiyasi ustida ishlovchi mutaxassislar tomonidan tashkil etilgan. Yarimo'tkazuvchilar uchun uskunalar tayyorlash va plazmani modellashtirish vositalarini yaratish bilan shug'ullanuvchi korxona 2025-2026 yillar davomida bir nechta investitsiya raundlarini yakunlab, Woyan Capital hamda SMIC Capital kabi yirik fondlardan mablag' jalb qilgan.